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J-GLOBAL ID：202103010447264354

グラフェンの連続製造装置及びグラフェンの連続製造方法

Inventor： 渡辺 純 ,  清水 哲夫 ,  久保 利隆
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  矢崎総業株式会社
Agent (4)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一 ,  伊藤 正和 ,  高松 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020085658
Publication number (International publication number)：2021178757
Application date： May. 15, 2020
Publication date： Nov. 18, 2021
Summary：

【課題】非気体炭素源を用いたグラフェンの連続製造が可能なグラフェンの連続製造装置及びグラフェンの連続製造方法を提供する。【解決手段】グラフェンの連続製造装置1は、載置された基板15を移動させるベルトコンベア10と、ベルトコンベア10上に載置された基板15を還元する還元部20と、還元部20の下流側に設けられ、基板15の表面又はこの表面上の空間に非気体炭素源35を供給する非気体炭素源供給部30と、非気体炭素源供給部30の下流側に設けられ、非気体炭素源35を加熱して気体炭素源45を生成する非気体炭素源加熱部40と、非気体炭素源加熱部40の下流側に設けられ、ベルトコンベア10上に載置された基板15を加熱して基板15の表面にグラフェン70を成膜する基板加熱部50と、を備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

載置された基板を移動させるベルトコンベアと、 前記ベルトコンベア上に載置された基板を還元する還元部と、 前記還元部の下流側に設けられ、前記基板の表面又はこの表面上の空間に非気体炭素源を供給する非気体炭素源供給部と、 前記非気体炭素源供給部の下流側に設けられ、前記非気体炭素源を加熱して気体炭素源を生成する非気体炭素源加熱部と、 前記非気体炭素源加熱部の下流側に設けられ、前記ベルトコンベア上に載置された基板を加熱して前記基板の表面にグラフェンを成膜する基板加熱部と、 を備えるグラフェンの連続製造装置。

IPC (2)：

C01B 32/186 ,  B82Y 40/00

FI (2)：

C01B32/186 ,  B82Y40/00

F-Term (15)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD22 ,  4G146BA12 ,  4G146BA49 ,  4G146BB06 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146DA03