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J-GLOBAL ID：202103013917821467

酸化ガリウムの製造方法

Inventor： 林 大和 ,  高野 裕希 ,  滝澤 博胤 ,  小林 稔季
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学
Agent (2)： 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019194105
Publication number (International publication number)：2021066636
Application date： Oct. 25, 2019
Publication date： Apr. 30, 2021
Summary：

【課題】低温かつ比較的簡単な工程でγ-Ga2O3を製造することができ、製造コストを低減することができる酸化ガリウムの製造方法を提供する。【解決手段】液体のガリウムと還元剤とを含む原料溶液に対して超音波を照射することにより、少なくとも表面にγ-酸化ガリウム(γ-Ga2O3)の結晶を有する粒子を形成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

液体のガリウムと還元剤とを含む原料溶液に対して超音波を照射することにより、少なくとも表面にγ-酸化ガリウム(γ-Ga2O3)の結晶を有する粒子を形成することを特徴とする酸化ガリウムの製造方法。

IPC (2)：

C01G 15/00 ,  B82Y 40/00

FI (3)：

C01G15/00 H ,  C01G15/00 D ,  B82Y40/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 有機溶媒ソノケミストリーによるナノ粒子合成法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-256632   Applicant：国立大学法人東北大学