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J-GLOBAL ID:202103014351315883

溶液分析装置及びその製造方法、並びに溶液分析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 長谷川 芳樹 ,  石坂 泰紀
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2017022253
Publication number (International publication number):2018128382
Patent number:6792869
Application date: Feb. 09, 2017
Publication date: Aug. 16, 2018
Claim (excerpt):
【請求項1】 基板と、前記基板に設けられた電極対と、前記基板上において検知対象成分を保持する収容部と、を有するセンサチップを備え、 前記収容部における前記電極対の表面上に前記検知対象成分が吸着しており、 前記収容部には錯体を含有する増感剤を有する溶液分析装置。
IPC (3):
G01N 27/416 ( 200 6.01) ,  G01N 33/483 ( 200 6.01) ,  G01N 37/00 ( 200 6.01)
FI (3):
G01N 27/416 386 G ,  G01N 33/483 E ,  G01N 37/00 101
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 電子回路中へのc-DNAの自己集積化とm-RNA認識パターンの直接演算処理法

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