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J-GLOBAL ID：202103015807407056

特定種イオン源およびプラズマ成膜装置

Inventor： 比村 治彦
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都工芸繊維大学
Agent (3)： 木村 満 ,  森川 泰司 ,  龍竹 史朗
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2018041365
Publication number (International publication number)：WO2019239613
Application date： Nov. 07, 2018
Publication date： Dec. 19, 2019
Summary：

特定種イオン源(10)は、チャンバ(11)と、チャンバ(11)内へO2ガスを供給する原料ガス供給源(12)と、チャンバ(11)内に供給されたO2ガスに高周波を印加することによりチャンバ(11)内にプラズマを発生させるプラズマ発生器(13)と、チャンバ(11)内に発生されたプラズマ中に含まれる元素Oのイオンをチャンバ(11)外へ引き出すとともに、引き出されたイオンを矢印AR14で示す方向へ加速させる加速部(14)と、加速部(14)により加速されたイオンの中から特定種のイオンO-を選別して矢印AR12で示す方向へ出力する選別部(15)と、を備える。

Claim (excerpt)：

チャンバと、 前記チャンバ内へ第1原料ガスを供給する第1原料ガス供給源と、 前記チャンバ内に供給された前記第1原料ガスに高周波を印加することにより前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生器と、 前記チャンバ内に発生したプラズマ中に含まれる前記第1原料ガスの元素のイオンを前記チャンバ外へ引き出すとともに、引き出されたイオンを予め設定された第1方向へ加速させる加速部と、 前記加速部により加速されたイオンの中から特定種のイオンを選別して予め設定された第2方向へ出力する選別部と、を備える、 特定種イオン源。

IPC (3)：

H01J 27/18 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/50

FI (3)：

H01J27/18 ,  H05H1/46 L ,  C23C16/50

F-Term (31)：

2G084AA05 ,  2G084AA12 ,  2G084BB06 ,  2G084BB11 ,  2G084CC13 ,  2G084CC25 ,  2G084CC33 ,  2G084DD03 ,  2G084DD39 ,  2G084FF25 ,  2G084FF27 ,  2G084FF28 ,  2G084FF29 ,  2G084FF39 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030FA04 ,  4K030FA10 ,  4K030FA14 ,  4K030HA12 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030KA30 ,  4K030KA32 ,  4K030KA34 ,  5C030DD01 ,  5C030DD04 ,  5C030DE02 ,  5C030DE04 ,  5C030DE10 ,  5C030DG09