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J-GLOBAL ID:202103016654121448

干渉光生成素子及び干渉イメージング装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人磯野国際特許商標事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2019184599
Publication number (International publication number):2021060283
Application date: Oct. 07, 2019
Publication date: Apr. 15, 2021
Summary:
【課題】構成が簡易な干渉光生成素子を提供する。【解決手段】入射光から干渉光を生成するコモンパス型の干渉光生成素子3と、干渉光生成素子3が生成した干渉光を検出する撮像素子4と、位相変調素子31に位相変調させると共に、撮像素子4が検出した干渉光から複素振幅画像を生成する演算部5とを備える干渉イメージング装置1であって、干渉光生成素子3が、入射光の一部を反射し、残りの入射光を通過させる光波分離素子30と、光波分離素子30を通過した入射光を位相変調する位相変調素子31と、光波分離素子30で反射された入射光と重なるように、位相変調素子31で位相変調された入射光を反射する反射部材32とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
入射光から干渉光を生成するコモンパス型の干渉光生成素子であって、 前記入射光の一部を反射し、残りの前記入射光を通過させる光波分離素子と、 前記光波分離素子を通過した入射光を位相変調する位相変調素子と、 前記光波分離素子で反射された入射光と重なるように、前記位相変調素子で位相変調された入射光を反射する反射部材と、 を備えることを特徴とする干渉光生成素子。
IPC (5):
G01B 9/02 ,  G02F 1/01 ,  G02B 5/30 ,  G01J 3/45 ,  G01J 3/26
FI (5):
G01B9/02 ,  G02F1/01 D ,  G02B5/30 ,  G01J3/45 ,  G01J3/26
F-Term (59):
2F064AA15 ,  2F064CC01 ,  2F064CC04 ,  2F064DD05 ,  2F064EE10 ,  2F064FF01 ,  2F064FF03 ,  2F064FF05 ,  2F064FF07 ,  2F064GG12 ,  2F064GG13 ,  2F064GG22 ,  2F064GG33 ,  2F064GG46 ,  2F064GG49 ,  2F064GG52 ,  2F064GG53 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ15 ,  2G020AA04 ,  2G020BA03 ,  2G020BA04 ,  2G020CA12 ,  2G020CB05 ,  2G020CB24 ,  2G020CB27 ,  2G020CC22 ,  2G020CC24 ,  2G020CD03 ,  2G020CD15 ,  2G020CD24 ,  2H149AA01 ,  2H149AB01 ,  2H149AB23 ,  2H149BB28 ,  2K102AA21 ,  2K102AA28 ,  2K102AA30 ,  2K102BA05 ,  2K102BB04 ,  2K102BC04 ,  2K102BC07 ,  2K102BC10 ,  2K102BD09 ,  2K102DB08 ,  2K102DC08 ,  2K102DC09 ,  2K102DD02 ,  2K102EA21 ,  2K102EB02 ,  2K102EB08 ,  2K102EB10 ,  2K102EB11 ,  2K102EB12 ,  2K102EB20 ,  2K102EB22 ,  2K102EB30

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