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J-GLOBAL ID：202103018015855131

フォトンシーブホログラム及び微細光学像投影装置

Inventor： 杉坂 純一郎 ,  平山 浩一 ,  安井 崇
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北見工業大学
Agent (3)： 木村 満 ,  武山 敦史 ,  森川 泰司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2019183428
Publication number (International publication number)：2021060474
Application date： Oct. 04, 2019
Publication date： Apr. 15, 2021
Summary：

【課題】対象物に対して正確な微細光学像を容易に投影できるフォトンシーブホログラム及び微細光学像投影装置を提供する。【解決手段】フォトンシーブホログラム10は、フォトンシーブを同一平面上に少なくとも二つ以上組み合わせたパターンで複数の凹部、凸部又は貫通孔が配置された微細構造体を備える。微細構造体は、電磁波を遮断する遮光膜11と、遮光膜11に形成され、電磁波を通過させることが可能な複数のピンホール11aと、を備えてもよい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

フォトンシーブを同一平面上に少なくとも二つ以上組み合わせたパターンで複数の凹部、凸部又は貫通孔が配置された微細構造体を備えるフォトンシーブホログラム。

IPC (2)：

G03F 7/20 ,  G03H 1/20

FI (3)：

G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521 ,  G03H1/20

F-Term (8)：

2H197AA50 ,  2H197BA11 ,  2H197CA07 ,  2H197JA05 ,  2K008AA00 ,  2K008EE01 ,  2K008EE04 ,  2K008HH01