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J-GLOBAL ID：202103019375839494

プラズマ処理装置

Inventor： 石島 達夫 ,  伊藤 卓也 ,  北野 卓也
Applicant, Patent owner： 国立大学法人金沢大学
Agent (1)： 新居 広守
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017104137
Publication number (International publication number)：2018200929
Patent number：6847452
Application date： May. 26, 2017
Publication date： Dec. 20, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 対象物の表面をプラズマ処理するためのプラズマ処理装置であって、 プラズマの原材料である液体を保持する容器と、 前記容器内の前記液体に没しない処理空間へマイクロ波を放射するスロットアンテナと、 少なくとも第1部分が前記処理空間に配置され、前記第1部分で前記対象物の裏面を保持しつつ、第2部分が前記液体と接触するホルダーと、 を備えるプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  B01J 19/08 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (5)：

H01L 21/302 101 D ,  B01J 19/08 E ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 104 H