金属超薄膜の成膜技術開発

Study period：2006 - 2006
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 工学部, 教授 )
Research overview：

従来のスパッタリング法により得られる最も薄い導電性金属薄膜厚は200Å程度であり、光学的には不透明である。そこで、スパッタ粒子の有する運動エネルギーを基板表面の吸着種との化学反応に活用し、特異な表面構造を構築することにより、膜厚100Å以下の導電性金属超薄膜を作製する。得られる金属超薄膜は光学的に透明で、次世代の有機EL デイスプレイ、帯電防止フィルム、IT や自動車用各種電磁波制御部品等への応用が可能となる。大掛かりな設備改造等が不要で、最も普及した生産技術であるスパッタ成膜法により、本提案の導電性金属超薄膜が実現できれば実用化の可能性は極めて高い。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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