真空紫外CVD法を用いた撮像素子用マイクロレンズ作製技術の開発

Study period：2006 - 2006
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 工学部, 助手 )
Research overview：

CMOS 型及びCCD 型撮像素子は、今日家電製品から最先端科学技術分野で用いられており、高性能化が期待されている。中でもCMOS 型撮像素子は、従来のCCD 型のものよりもダイナミックレンジが広く、これからの撮像素子として高性能化を目指した技術開発が精力的に進められている。CMOS 型撮像素子表面には、開口率を上げるためマイクロレンズを取り付ける必要があるが、樹脂を塗布した後、加熱してド-ム型に膨らませて製作する従来方法では、素子への熱ダメージが問題となる。代表研究者は、平成17年度に採択された“JST

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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