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J-GLOBAL ID：202104003419657267  Research Project code：09158921

高性能永久磁石薄膜を用いた磁気マイクロデバイスの研究開発

高性能永久磁石薄膜を用いた磁気マイクロデバイスの研究開発
Study period：2009 - 2011
Organization (2)：
日立金属株式会社

About 日立金属株式会社

, 
東京工業大学

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Corporate responsibility：
日立金属株式会社

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Research responsibility：
進士 忠彦

About 進士 忠彦

(
東京工業大学

About 東京工業大学

, 精密工学研究所, 准教授 )
Terms in the title (7)：
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
高性能

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, 
永久磁石

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, 
薄膜

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, 
磁気

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, 
マイクロデバイス

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, 
研究

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, 
開発

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Research program：
Industry-Academia Collaborative R&D

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Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency

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