レーザ・プラズマ軟X線によるSi結晶化薄膜の作製と基礎評価に関する研究

Study period：2008 - 2008
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 大学院工学研究科, 教授 )
Research overview：

本研究は、非晶質Si(a-Si)へのレーザ・プラズマ軟X線(LPX)照射による低温結晶化過程の中の核形成機構の解明に関する。具体的には集光させた高輝度LPXをa-Si薄膜に照射することにより200°C程度の低温でナノメートル寸法の微結晶粒(次段の粒成長における擬似結晶核となる)を形成し、連続して低輝度のLPX照射を行い既に形成されている微結晶粒を成長させ、新規結晶化法としても確立する。特にまだ明確になっていない擬似結晶核形成過程の物理を解明し、200°C以下で核形成/粒成長過程を制御することを目標とする。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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