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J-GLOBAL ID:202104003914907962
Research Project code:11101249
大気圧ライン状噴霧CMD法による透明導電膜の大面積製膜技術
大気圧ライン状噴霧CMD法による透明導電膜の大面積製膜技術
Study period:2011 - 2011
Organization (1):
Research responsibility:
(
, 理工学研究科, 教授 )
Research overview:
研究開発目標である透明導電膜の基盤材料としてAl添加ZnOおよび導電性高分子PEDOT:PSSを選択し、霧化塗布法で塗布試験を行った。またそれらの膜を用いて結晶Si系太陽電池の試作を行った。この際ス塩終端結晶Si表面は疎水性であるため、従来のスピンコート等の塗布技術では均一塗布膜が得られない。この問題を克服するため静電塗布法または霧化塗布法にメッシュバイアスを印加することで均一形成を可能とした。その結果結晶SiとPEDOT:PSS(無機・有機ハイブリッド)太陽電池素子で変換効率11.3%および霧化塗布法で8.3%を実現した。特に平坦化基板上のみならずテクスチャー基板上の均一形成も可能であることから当該技術は関連分野のみならず有機EL等への展開が期待される。これらの成果に関する論文発表および特許申請をおこなった。今後はより一層の大面積化への対応を目指し、キャリアガスの流れの制御、大面積対応前駆体供給法の開発、走査基板上の塗布に関する検討を推進する。
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Research program:
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Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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