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J-GLOBAL ID：202104004101124207  Research Project code：7700112826

低温・高速スパッタリング成膜装置

低温・高速スパッタリング成膜装置
National award number：JPMJTT0320
Study period：2003 -
Organization (2)：
金沢大学

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, 
株式会社ライク

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Principal investigator：
畑 朋延

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(
金沢大学

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, 工学部, 教授 )
Corporate responsibility：
株式会社ライク

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DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTT0320
Terms in the title (3)：
Terms in the title
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低温

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, 
スパッタリング

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, 
成膜装置

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Research program：
Industry-Academia Collaborative R&D

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