室温ナノインプリントによる高耐熱性光学素子の作製

Study period：2012 - 2013
Organization (1)：
Research responsibility： ( , 高度産業科学技術研究所, 教授 )
Research overview：

熱ナノインプリントと光(UV)ナノインプリントが通常使用されているが、加熱もUV照射も必要としない、プレスのみで高精度・高スループットが可能である、独自開発の室温ナノインプリントを利用して、高耐熱性ガラス光学素子作製研究を行った。PDMSモールドを用いて、液滴HSQの低圧室温ナノインプリントが可能であることを示し、モスアイ構造の作製・評価を行った。はしご型HSQを用いることにより、1000°C高温アニールのガラス化処理後でもアニール前の矩形性を維持し、パターン寸収縮変化差は見られなかった。さらに、HSQのヤング率が600°Cアニール処理を行うことにより、急激に10倍程度上昇することを確認した。本研究成果により、室温ナノインプリントにより、高耐熱性ガラス光学素子の作製が可能であることを実証した。

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Research program：＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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