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J-GLOBAL ID:202104005073271408
Research Project code:20349413
自由曲面上への高精細電子回路の全印刷製造技術の開発
自由曲面上への高精細電子回路の全印刷製造技術の開発
National award number:JPMJTR202N
Study period:2020 - 2022
Organization (2):
,
Corporate responsibility:
Research responsibility:
(
, 大学院工学系研究科, 教授 )
DOI:
https://doi.org/10.52926/JPMJTR202N
Research overview:
人間とコンピュータがより心地よく繋がった未来社会の実現に向けて、各種の情報入出力端末の軽量・フレキシブル化と自由形状化が強く求められている。本研究は現行フォトリソグラフィ法等では対応が著しく困難な自由曲面上に、情報端末を構成する高精細な電子回路を、近常温・常圧下における塗布のみにより高均質・高生産性のもと印刷製造する技術の開発を目的とする。このため、先導的な高精細電子回路の独自印刷技術を核とする自由曲面上への全印刷デバイス製造装置の開発と、これによるデバイス試作品の動作実証を行う。軽量・自由形状デバイスの製造技術を革新し、モビリティ・IoT・ロボット分野等へと浸透させる突破口にすることを狙う。
Terms in the title (3):
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Research program:
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Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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