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J-GLOBAL ID:202104005371764310  Research Project code:08001351

非晶質炭素薄膜における導電性制御技術の開発

非晶質炭素薄膜における導電性制御技術の開発
Study period:2007 - 2007
Organization (1):
Principal investigator: ( , 工学部電気電子工学科, 助教授 )
Research overview:
非晶質炭素薄膜は高硬度,高電気絶縁性を有し,光透過性がよく,化学的に不活性で低摩擦,耐摩耗性があるなど,優れた物性を有している.そのため,保護膜等のコーティング膜として応用されている.しかし,電気伝導性制御が難しいことから電子デバイスへの応用はほとんど進んでいない.本研究では,電子デバイス作製の基盤技術となるドーピングによる導電性制御を目指すものである.そのため,デドープ現象の解明や,欠陥密度の低減,膜構造制御技術の確立を目的とする.
Terms in the title (4):
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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