Proj
J-GLOBAL ID：202104005376843269  Research Project code：7700108348

高出力半導体レーザによる半導体成膜プロセス技術開発

高出力半導体レーザによる半導体成膜プロセス技術開発
Study period：2005 -
Organization (1)：
株式会社アルファ・オイコス

About 株式会社アルファ・オイコス


Corporate responsibility：
株式会社アルファ・オイコス

About 株式会社アルファ・オイコス


Terms in the title (4)：
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
高出力

About 高出力

, 
半導体レーザ

About 半導体レーザ

, 
成膜プロセス

About 成膜プロセス

, 
開発

About 開発

Research program：
Industry-Academia Collaborative R&D

About Industry-Academia Collaborative R&D

＞
R&D Programs Focused on Technology Transfer

About R&D Programs Focused on Technology Transfer

＞
Programs dosed application by FY2008

About Programs dosed application by FY2008

＞
Promoting business using advanced technology Development of Creative Technology Seeds

About Promoting business using advanced technology Development of Creative Technology Seeds

＞
Modeling of Innovative Research results

About Modeling of Innovative Research results


Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM