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J-GLOBAL ID:202104006142126489  Research Project code:09157006

レーザーアニール低温結晶化技術による高性能フレキシブル圧電体フィルムの開発

レーザーアニール低温結晶化技術による高性能フレキシブル圧電体フィルムの開発
Study period:2009 - 2009
Organization (1):
Principal investigator: ( , 工学部, 教授 )
Research overview:
研究者がこれまで開発してきたRFマグネトロンスパッタリング法による300°C以下におけるPtおよびLaNiO3酸化物電極の結晶化技術と、エキシマレーザー照射を用いたレーザーアニール法を組み合わせることにより、300°C以下での圧電体(PZT)薄膜の結晶化技術を応用し、300°C以下の温度で耐熱性を有するポリイミドフィルム上にこれらの材料を制膜することにより、フレキシブル素子としての機能を実証するものである。
Terms in the title (5):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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