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J-GLOBAL ID:202104006432816810  Research Project code:7700009971

静電誘引インクジェット技術を応用したレジスト塗布装置の開発

静電誘引インクジェット技術を応用したレジスト塗布装置の開発
Study period:2005 - 2005
Organization (1):
Principal investigator: ( , 情報工学部情報工学科 )
Research overview:
目的:静電誘引インクジェット技術を応用して.広面積を有する半導体ウエハー等へ、レジストの均一な薄膜を塗布する装置の開発を目的とする。内容:静電的に誘引されるレジストは.ノズル先端から連続流の液柱となって飛翔し、この液柱の先端からは、微粒子となって霧散する。レジスト塗布装置には,微粒子となった霧状態を使用する。 現在まで,静電誘引インクジェットを応用した階調画像の記録等に関する研究を試みてきた。これらの研究成果の背景に基づき.レジスト塗布装置へ応用することを考えた。特にインク微粒子となった霧状態のレーザ光観測と階調画像の記録結果からレジスト塗布への応用は実用可能である。
Terms in the title (5):
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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