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J-GLOBAL ID：202104006649218466  Research Project code：19192912

機械学習判定によるSiCウェハ・デバイス信頼性高速評価装置開発

機械学習判定によるSiCウェハ・デバイス信頼性高速評価装置開発
National award number：JPMJTM19CP
Study period：2019 - 2020
Organization (1)：
名古屋工業大学

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Principal investigator：
加藤 正史

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(
名古屋工業大学

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, 大学院工学研究科, 准教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTM19CP
Research overview：
パワー半導体デバイス用の材料SiCには、ウェハ内に欠陥が存在する。特に基底面転位という欠陥は、長期信頼性を有するデバイスの製造を困難にする。本課題では、SiCウェハの基底面転位を検出し、デバイス信頼性を高速で判定する装置を開発する。
Terms in the title (5)：
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機械学習

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, 
SiC

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ウェハ

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Research program：
Industry-Academia Collaborative R&D

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Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency

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