標準CMOS集積回路とメムスプロセスによるスマート・イオンセンサ技術の開発

National award number：JPMJTS1514
Study period：2015 - 2020
Organization (2)： ,
Corporate responsibility： ( )
Research responsibility： ( , 工学研究科, 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJTS1514
Research overview：

イオン信号に適した新しい集積回路技術を開発します。標準CMOS集積回路上にセンサ特有の構造をメムスプロセスで形成する際、両プロセスの間に存在するリソグラフィのギャップを自己整合プロセスにより解決します。分子認識部としてプローブを固定したビーズの3次元空間位置制御技術を開発します。スマート・イオンセンサに特化した汎用集積回路およびウィルスをフィールドで10分以内に検出する小型可搬型装置を開発します。

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Research program：＞＞＞
Parent Research Project：ナノレベルの分解能と識別感度をもつイオンセンサの実現に向けた技術開発
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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