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J-GLOBAL ID:202104009139749962
Research Project code:11104006
塗布型透明導電膜製造プロセス基盤技術の開発
塗布型透明導電膜製造プロセス基盤技術の開発
Study period:2011 - 2012
Organization (1):
Research responsibility:
(
, 大学院理工学研究科, 准教授 )
Research overview:
高度情報化社会の実現に伴いフレキシブルディスプレイや電子ペーパーといった新規デバイス製造のために必要となる印刷エレクトロニクス製造プロセスの開発が求められているが、導電性インク塗布によって形成されるこのプロセスの支配因子は明らかになっていない。申請者はこれまで撥水性をコントロールした透明導電膜基板形成に成功しており、本申請課題では塗布型透明導電膜製造プロセスを開発するためこの技術を用いて、1撥水性と導電性インク液滴の濡れ性、2撥水性と導電性インクの乾燥特性、3撥水基板上における導電性インク塗布膜形成メカニズムを明らかにし、当該技術の実用化を目指す。
Terms in the title (4):
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Research program:
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Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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