熊本県「超精密半導体計測技術開発」

Study period：1999 - 2004
Organization (2)： ,
Principal investigator： ( , 専務理事 )
Research responsibility： ( , 名誉教授 )
Research overview：

半導体生産現場での発生が予想される数多くの準要素技術課題の解決を目的に、次世代半導体の生産技術に不可欠な線幅0.1 ミクロン以下の加工精度を確保するために必要な超精密計測・加工技術の創出を目指す。超精密高速ステージ、3 次元形状計測手法、プローバ高周波計測技術、エッチング異常放電監視法、レジスト塗布・現像プロセス、次世代実装対応メッキ技術を開発する。「超精密半導体計測技術開発」はコアテーマに「超精密高速ステージ開発」、サブテーマに「計測技術開発」、「デバイス形成技術開発」を掲げ、8つの小テーマに基づき実施した。この技術開発は、次世代の半導体生産現場での発生が予想される数多くの準要素技術課題を解決するものであり、我が国半導体産業が世界に対するイニシアティブを持つことにつながるものである。併せて、半導体産業のみならず他分野にも応用可能なことが多いことから、本県産業の空洞化、弱体化を抑制するだけではなく、新技術、新産業創出にもつながる。

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Research program：＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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