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J-GLOBAL ID:202104009819917452  Research Project code:08068707

低希土類含有量に基づく高性能磁石膜の設計開発

低希土類含有量に基づく高性能磁石膜の設計開発
Study period:2008 - 2008
Organization (1):
Principal investigator: ( , 工学部, 助教授 )
Research overview:
「本成膜手法」は、磁性膜の代表的な成膜手法であるスパッタリング法とは異なり、10-8Torr台の高真空中での成膜が可能である。そこで、「枯渇資源が注目されているDyやNdなどの希土類元素」の含有量を極力低減させた磁石膜の開発ならびにそのデバイスへの応用研究を提案する。
Terms in the title (6):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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