光励起緩和経路の精密設計に基づく高耐久性サンスクリーン用化合物の開発

Study period：2009 - 2009
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 工業技術センター, 主任研究員 )
Research overview：

サンスクリーン(日焼け止め)に使用されているUV吸収化合物は、UV-A (280-320 nm:長期間暴露による慢性炎症)、UV-B(220-280 nm:直接的な皮膚損傷)、の両領域を効率よくカットし、耐久性にも優れていることが求められる。本研究では、量子化学理論計算に基づき、従来は考慮されてこなかった励起三重項状態間のエネルギー移動経路を最適化することで、光劣化速度を抑えた高耐久性サンスクリーン剤の開発を目指す。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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