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J-GLOBAL ID：202104010462433182
Research Project code：07051233
ナノ光リソグラフィーによる金属ナノパターン作製技術の開発
ナノ光リソグラフィーによる金属ナノパターン作製技術の開発
National award number：JPMJPR07N3
Study period：2007 - 2010
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 電子科学研究所, 助教 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJPR07N3
Research overview：
シングルナノメートルの加工分解能を有するナノ光リソグラフィー技術を開発し、プラズモニックデバイスやナノ電気回路として動作する金属ナノパターンを作製する技術を確立します。高い光電場増強を示すナノギャップ金構造をフォトマスクとして、近赤外光による局所的なフォトレジストの非線形光反応を誘起し、高分解能リソグラフィーを実現する従来とは異なる動作原理に基づいた光加工技術を開発します。
Terms in the title (4)：
Terms in the title
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Research program：
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Parent Research Project：
ナノ製造技術の探索と展開
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
