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J-GLOBAL ID：202104010739057990
Research Project code：7700000935
自己集合膜を利用したストレスの制御とパターニング
自己集合膜を利用したストレスの制御とパターニング
National award number：JPMJPR02A6
Study period：2002 - 2005
Organization (1)：
Principal investigator：
(
, 材料研究所, 主任研究員 )
DOI：
https://doi.org/10.52926/JPMJPR02A6
Research overview：
ストレスは物質の歪みや破壊に繋がるものとして悪印象がありますが、ストレスが存在する場所だけで反応性が上がったり、ポテンシャルが変化したりして、利用の可能性も秘めています。本研究は自己集合膜が作るストレスがイオン照射で大きく変わることを利用し、ストレス変調表面を作り、反応制御のパターニングを行うことを目的としています。この研究により、ナノ描画手法の一つとしてストレスを用いることが可能となります。
Terms in the title (3)：
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Research program：
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Parent Research Project：
情報、バイオ、環境とナノテクノロジーの融合による革新的技術の創製
Organization with control over the research：
Japan Science and Technology Agency
