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J-GLOBAL ID:202104011525156490
Research Project code:20347229
ロール・トゥ・ロールプロセスによるシリコンCMOS転写技術の開発
ロール・トゥ・ロールプロセスによるシリコンCMOS転写技術の開発
National award number:JPMJTM20G4
Study period:2020 - 2021
Organization (1):
Principal investigator:
(
, 先進理工系科学研究科(先), 教授 )
DOI:
https://doi.org/10.52926/JPMJTM20G4
Research overview:
水のメニスカス力を利用してプラスチック基板上に単結晶シリコン薄膜を転写し,CMOS回路を形成する技術をシーズとし,これを量産可能とする製造技術の確立を目的とする.具体的にはプラスチック(PET)基板の所望の箇所に局所的に転写を実現する技術と,これをロール・トゥ・ロールプロセスで実現し99%以上の転写歩留まりを達成する技術の確立を目指す.安価なPET基板上にロール・トゥ・ロールプロセスで高機能回路を形成し動作実証することにより,フレキシブルエレクトロニクスにブレークスルーをもたらすものづくり技術を構築する.
Terms in the title (4):
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Research program:
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Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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