光干渉縞を利用した大型基板表面の清浄度分布解析法の実用化研究

Study period：2005 - 2005
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 電気系 )
Research overview：

本研究では、液晶用ガラスやシリコンウエハなどの大型基板表面の清浄度度に対し、高精度・高効率で非破壊評価する新技術(光干渉縞解析)を提案するとともに、試作機を作製し実用化を目指している。この技術は、大型基板の表面に多数の微小液滴を形成し、これに特定波長光を照射することで光散乱を生じさせて、基板表面に円形の光干渉縞を形成させる。この光干渉縞の直径と幅の情報を用いて、基板表面の清浄度分布を高感度に定量化できる。本研究では、微小液滴群の凝縮・成長過程を解明し、光干渉縞による清浄度評価の高精度化を目指す。また、実用化に向けて実用機を作製し、再現性および高効率化に関する評価を実施する。

, , , , , , ,

Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

Return to Previous Page