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J-GLOBAL ID:202104012160391580  Research Project code:19198402

低損傷・高平坦性を実現する表面活性化法を用いた革新的ウェハ接合技術の開発

低損傷・高平坦性を実現する表面活性化法を用いた革新的ウェハ接合技術の開発
National award number:JPMJTM19CE
Study period:2019 - 2020
Organization (1):
Principal investigator: ( , 大学院工学研究科, 准教授 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJTM19CE
Research overview:
数千個の原子の塊であるガスクラスタービーム(GCIB)照射により、低損傷かつ高平坦性を有する活性化表面を実現し、真空中でウェハ同士を接合することにより革新的ウェハ接合技術を開発する。
Terms in the title (5):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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