化粧品添加物および日光過敏症新薬開発を目的とする光DNA損傷修復遺伝子のスクリーニング

Study period：2010 - 2011
Organization (1)：
Research responsibility： ( , 医歯(薬)学総合研究科, 助教 )
Research overview：

本研究課題では、平成21年度採択のシーズ発掘試験にて開発した、放射性同位元素を使用しないヌクレオチド除去修復アッセイシステムと高速スクリーニング技術を実際に運用し、siRNAライブラリースクリーニング、エキソームシーケンシングを平行して実施することで、20年来責任遺伝子が未知であった紫外線感受性症候群の原因遺伝子UVSSAを同定することに成功した。UVSSA遺伝子は、日焼けの原因遺伝子であることから、この遺伝子産物を対象とした各種医薬品及び化粧品等の開発が可能であり、これらを包括した特許申請をおこなった。

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Research program：＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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