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J-GLOBAL ID:202104012264244687  Research Project code:7700004541

ナノスケール研磨に向けた高速パルス大気圧イオンエッチング技術の開発

ナノスケール研磨に向けた高速パルス大気圧イオンエッチング技術の開発
Study period:2006 - 2006
Organization (1):
Principal investigator: ( , 理工学研究科応用粒子線科学専攻, 助教授 )
Research overview:
レーザや放電加工による精密部品の後加工における表面仕上げ分野では,高度職業人によるやすりがけに代わり可搬式小型で基材を傷めない研磨ツールが求められている.研究代表者は,これを開発するために真空容器が不要で可搬式の大気圧プラズマから正イオンを引出し,負バイアスされた試料にイオンを衝撃する表面エッチングを他に先駆けて提案している.本申請は,立下がりの極めて早い高電圧の負バイアス(500 V/ns,5 kV)を試料に印加することで,大気圧雰囲気でもスパッタ効果を引出し,10~100 nm スケールのエッチングを発現する試験研究である.このような大気圧下での試みは例が無く,高速パルス形状や繰返し周波数を変えてイオンの照射効果を観察し,エッチングレートと試料温度のトレードオフ条件を見出し,実用化を図る.
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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