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J-GLOBAL ID:202104012866970311  Research Project code:09156413

プラズマを用いた半導体ナノワイヤ大量合成技術

プラズマを用いた半導体ナノワイヤ大量合成技術
Study period:2009 - 2009
Organization (1):
Principal investigator: ( , 工学研究科 )
Research overview:
数十nm以下の直径を有する半導体ナノワイヤは、次世代の電子・光デバイスや環境・エネルギー関連デバイスなど様々な分野への応用が期待される。半導体ナノワイヤのボトムアップ形成について、従来の熱プロセス "VLS (vapor-liquid-solid) 法" にかわり、プラズマプロセスを適用した大口径化可能 (メートルサイズの基板にまで適用可能) な新しい高精度ナノワイヤ大量合成技術 "PLS (plasma-liquid-solid) 法" を開発し、その有用性・実用性を実証する。
Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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