「3次元フォトリソグラフィ」のための露光技術及び装置開発

Study period：2006 - 2006
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 工学研究科機械・知能系ナノメカニクスコース, 助教授 )
Research overview：

本試験では、露光条件を高度に制御し、膜厚変動±20%のレジスト膜厚、段差200μm以上のデバイス底面、幅10μmのパターニングが可能な露光装置を開発することを目的とする。具体的には、高度にコリメーションした光源による斜め露光の検討、工程の少ない処理で均一なパターンを得るための検討を行い、「露光装置」及び「3 次元フォトリソグラフィ」装置の技術開発を行う。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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