可視光レーザーリソグラフィー法を用いた超高速・大面積ナノインプリントモールドの作製技術に関する研究

Study period：2005 - 2005
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Research overview：

ナノインプリント技術はナノメータサイズを持つ構造物を高速・安価に大面積で作製出来ることから、液晶ディスプレイの広角反射防止やLEDの高輝度化などの光学素子や半導体素子など多くの微細構造デバイスヘの適用が期待されているものの、ナノインプリント用モールド作製において、ナノメートルオーダの微細な構造を安定的に作製することが技術的に難しい。従来、微細パターン描画法として電子ビーム描画法が用いられているが、低スループットであること、描画面積に限界があること、かつ、作製コストが極めて高いこと等から新規な作製法の確立が関連業界から強く要望されている。本提案では、我々が考案した可視光レーザ熱リソグラフィー法に基づく高速・大面積のナノインプリント用モールドの作製技術を研究開発することにより、新しいナノインプリント技術を提供する。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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