PBII法を用いたNIL用高硬度・高剥離性を有するF-DLCモールドの開発

Study period：2007 - 2007
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 高度産業科学技術研究所, 助教授 )
Research overview：

ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は、数十nmスケールのパターンを容易・低コストで形成できるために、LCD部材・燃料電池などの様々な先端産業分野で注目を集めている。本課題はこれまでNILの量産化にネックとなっていた耐摩耗性と高剥離性を満足するモールド離型材の決定版として、Plasma-Based Ion Implantation(PBII)法により、フッ素を含有したダイヤモンドライクカーボン(F-DLC)を用いるモールドの開発を行う。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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