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J-GLOBAL ID:202104016222671360  Research Project code:11101222

紫外線リソグラフィによるエポキシ樹脂系分子フィルタ作製技術の開発

紫外線リソグラフィによるエポキシ樹脂系分子フィルタ作製技術の開発
Study period:2011 - 2011
Organization (1):
Research responsibility: ( , 先端医工学研究ユニット, 特定助教 )
Research overview:
細胞や分子を微小な空間で扱うバイオチップの構造材料として利用されているエポキシ樹脂系ネガレジストが、紫外線リソグラフィの加工パラメータで拡散係数を制御可能な「分子透過膜」として利用できることを実証することに成功した。例えば本研究開発の分子透過膜におけるRhodamine-6Gの拡散係数は10^-8~10^-6 mm^2/sレベルを実現できることがわかった。さらにエポキシ樹脂系ネガレジストの分子透過特性に関する基礎的な現象を粗視化分子動力学法によって裏付けることができた。提案する分子透過膜の加工技術は汎用性があり、かつバイオチップ内へ簡単に集積加工できるため、新規のバイオ実験用プラットフォームに応用展開できる。今後は各種イオンや糖類などの透過特性を明らかにすることで,実用性のある分子透過膜として企業化できる。
Terms in the title (5):
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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