Proj
J-GLOBAL ID:202104016361442413
Research Project code:7700009385
シリコンウェハを用いた超薄型赤外線回折光学レンズの製作技術の開発
シリコンウェハを用いた超薄型赤外線回折光学レンズの製作技術の開発
Study period:2005 - 2005
Organization (1):
Principal investigator:
(
, 工学研究科ナノメカニクス専攻 )
Research overview:
単結晶シリコン(Si)は、半導体基板材料であると同時に、優れた赤外線光学材料でもある。しかし現在の赤外光学系に使用されているSiレンズはほとんど球面レンズであり、球面収差や透過損失などの問題がある。もしウエハ状の薄型Si回折レンズの製作が可能になれば、球面収差と透過損失が同時に低減でき、光学系の飛躍的な小型軽量化・高性能化が可能である。このようなレンズは、防衛・防犯用の高精度暗視カメラやサーマルイメージングデバイス、ナイトビジョンシステムなどのへ応用が期待できる。そこで、nmレベルの切取り厚さが設定可能な超精密延性モード切削法を提案し、Siウエハを基板とした赤外線回折レンズの加工技術を開発する。
Terms in the title (7):
Terms in the title
Keywords automatically extracted from the title.
,
,
,
,
,
,
Research program:
>
>
>
>
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
Return to Previous Page