ダイヤモンドナノ粒子薄膜形成技術の開発

Study period：2001 - 2004
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Research overview：

ダイヤモンドナノ粒子を積層し膜構造の粗密状況を高く制御できる薄膜形成法である。本技術は高耐熱性・高熱伝導性(放熱性)・高耐摩耗性の薄膜を形成しようとするものであり、従来のLSI多層配線における層間絶縁膜や被服保護膜等に比べて優れた特性を有する。さらに、積層状況を制御することで、ダイヤモンド粒子膜の多孔度が制御可能であり、疎な膜の場合は、低誘電率膜としての応用も可能であることから、早期の実用化が望まれている。

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Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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