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J-GLOBAL ID:202104017078373746
Research Project code:12101877
真空・大気圧中で使用可能な精密搬すべり送装置用超低摩擦係数薄膜の開発
真空・大気圧中で使用可能な精密搬すべり送装置用超低摩擦係数薄膜の開発
Study period:2012 - 2013
Organization (1):
Research responsibility:
(
, 工学部第一類(機械システム工学系), 准教授 )
Research overview:
シリコンウェハ搬送装置において要求される精度は年々厳しくなっており、より高精度の摺動装置が望まれている。使用環境を考慮すると、大気圧下のみならず真空下で低い摩擦係数を発現する材料が必要とされている。本研究では、低摩擦係数であるSiC薄膜を用いた。真空プロセスにより微細構造を形成させ、SiC薄膜の摩擦係数のさらなる改善を試みた。その結果、微細構造形成により、大気圧および真空において摩擦係数が低減可能であることを明らかにした。
Terms in the title (8):
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Research program:
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Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency
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