マスク検査用高輝度EUV光源の開発

Study period：2011 - 2011
Organization (1)：
Research responsibility： ( , 工学研究科, 准教授 )
Research overview：

極端紫外 (EUV) リソグラフィーにおいて、マスク検査用光源がないことが指摘されている。マスクは多層膜形状であるため、従来技術の深紫外光ではマスク表面の欠陥しか調べることができず、マスク内部の欠陥を調べることはできない。EUV 光による欠陥検査が急務とされているものの、高輝度光源は未だに実現されていない。本研究では、要求されているマスク検査用高輝度EUV 標準光源を開発するための基本指針を得ることを目標とした。ドット状質量制限ターゲットを用いることにより、光源サイズが非常に小さい高効率の小型高輝度光源を実現するためのプラズマ状態の詳細な数値解析、高輝度化のための極小ターゲットの開発、放射スペクトルを観測すると共に、変換効率を評価するためのエネルギーメータを整備した。

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Research program：＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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