金属イオンを用いた新規口臭予防薬の開発

Study period：2009 - 2009
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 歯学部歯科薬理学講座, 准教授 )
Research overview：

口臭は口腔内細菌によるアミノ酸などの分解産物が主要な原因である。硫化水素やメチルメルカプタン等の揮発性硫化物は主要な口臭物質として認識されており、歯周病細菌によって主に歯周ポケットから産生されることから、口臭と歯周病の関連も示唆されている。国民の15%は口臭の悩みをもっているとの厚生労働省の調査にも拘らず、現在の口臭抑制剤の大半は口臭をマスクするものであり、原因療法に立脚した口臭抑制薬や予防薬は殆ど存在しない。そこで本研究では、臨床応用を目的とした口臭発生メカニズムに基づく口臭治療薬を開発する。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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