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J-GLOBAL ID:202104018014408593  Research Project code:11101531

表面修飾ナノチューブを用いた超精密研磨用スラリーの開発

表面修飾ナノチューブを用いた超精密研磨用スラリーの開発
Study period:2011 - 2011
Organization (1):
Research responsibility: ( , 工学部, 教授 )
Research overview:
本研究は、次世代光デバイス用の基板として用いられるサファイアおよびニオブ酸リチウム基板やLSI多層配線で必要となる超精密研磨用研磨剤としての表面修飾カーボンナノチューブ(CNT)の応用を検討したものである。酸素プラズマ処理によりCNT表面にC-OH結合、C=O結合、およびCOOH結合を導入しサファイア基板を研磨した。研磨速度は-OH基濃度に比例し、同一研磨条件でコロイダルシリカの約2倍の研磨速度を得る事ができた。また、15wt%表面修飾CNT研磨溶液を用いて研磨した結果、平均Ra=13.5±5nmの鏡面研磨ができ、表面修飾CNTが超精密研磨用研磨剤として利用できる可能性を明らかにした。
Terms in the title (5):
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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