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J-GLOBAL ID:202104018973273516  Research Project code:07050861

大面積電子デバイス用基盤技術のための大気圧マイクロプラズマ処理装置の開発

大面積電子デバイス用基盤技術のための大気圧マイクロプラズマ処理装置の開発
Study period:2006 - 2009
Organization (1):
Research responsibility: ( , 理工学研究科, 准教授 )
Research overview:
液晶・有機電界発光ディスプレイ駆動用薄膜トランジスター(LCD・OLED-TFT)の基盤材料である多結晶シリコン(poly-Si)製造技術として、大気圧高周波熱プラズマトーチを熱源に、プラズマ直下の可動基板上に設置したアモルファスシリコン(a-Si)の結晶化技術を開発した。
Terms in the title (5):
Terms in the title
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Research program:
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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