高レーザー耐力光学素子応用のためのフッ化物系材料の複合的表面加工処理技術の開発

Study period：2007 - 2007
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 工学部電子情報通信工学科, 講師 )
Research overview：

紫外レーザー光源の短波長化、高出力化では光学素子表面のレーザー損傷が性能向上の大きな障壁となっている。紫外域での表面レーザー損傷耐力の低下の原因は主に光学素子表面に形成されている表面変質層である。CaF2などのフッ化物系光学材料では石英ガラスより極めて優れた紫外透過特性を持つためにさらに高い表面レーザー損傷耐性の実現が期待できる。本研究では、新しい複合的表面加工処理技術を世界で初めてフッ化物系光学材料表面に応用することで、既存の石英ガラス光学系の4.0倍以上の超高レーザー耐力表面を実現する。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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