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J-GLOBAL ID:202104020519575219  Research Project code:7700000295

エピタキシャル成長による半導体と磁性体の一体化

エピタキシャル成長による半導体と磁性体の一体化
National award number:JPMJPR95L7
Study period:1995 - 1998
Organization (1):
Principal investigator: ( , 大学院工学系研究科, 助教授 )
DOI: https://doi.org/10.52926/JPMJPR95L7
Research overview:
強磁性金属と半導体との異種物質ヘテロエピタキシーを実現し、原子レベルで構造・膜厚を制御した磁性体/半導体エピタキシャル超構造を作製することにより、半導体エレクトロニクスの世界にスピンテクノロジーという新しい自由度をもたらします。
Terms in the title (3):
Terms in the title
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Research program:
Parent Research Project: 場と反応
Organization with control over the research:
Japan Science and Technology Agency

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