レーザー描画基礎技術の研究開発

Study period：2005 -
Organization (1)：
Principal investigator： ( , 教授 )
Research overview：

システムLSIを生産するに当たり最大の課題は、システムLSIのパターン形成に使用されるマスク製造時の描画に時間がかかるため、その価格が異常に高額なことである。本研究開発では、露光用マスクの製造技術において、従来の電子ビーム描画に替わり、レーザービームを用いて高速にパターンを描画できる基礎技術を開発する。描画時間の大幅な短縮により、我が国のエレクトロニクス産業用の戦略商品であるモバイル・デジタル家電などに必須な少量多品種製品の生産コストを下げ、市場の拡大や競争力の向上に大きく貢献できる。

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Research program：＞＞＞＞
Organization with control over the research：

Japan Science and Technology Agency

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