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J-GLOBAL ID：202203002194531266

トリオキソプロパン化合物の製造法

Inventor： 小林 修 ,  北之園 拓 ,  谷 真樹
Applicant, Patent owner： クミアイ化学工業株式会社
Agent (4)： 佐伯 拓郎 ,  中村 正展 ,  佐伯 裕子 ,  牛山 直子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：7037351
Patent number：7030059
Application date： Oct. 16, 2017
Claim (excerpt)：

【請求項1】 一般式(1):(式中、R1及びR2は同一または異なっていてもよく、それぞれ、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよいC1~C6アルキル基、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよいC3~C6シクロアルキル基、1又は2個以上の同一又は異なるR4により置換されていてもよいアリール基、1又は2個以上の同一又は異なるR4により置換されていてもよいヘテロアリール基、ヒドロキシル基、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよいC1~C6アルコキシ基、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよいC3~C6シクロアルコキシ基、1又は2個以上の同一又は異なるR4により置換されていてもよいアリールオキシ基、1又は2個以上の同一又は異なるR4により置換されていてもよいヘテロアリールオキシ基を示し、又は、R1及びR2は一緒になって、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよいC2~C5アルキレン基、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよい-O-(C1~C4アルキレン)-基、及び、1又は2個以上の同一又は異なるR3により置換されていてもよい-O-(C1~C3アルキレン)-O-基、からなる群より選ばれる2価の基を形成することにより5~8員環を形成し、R3はC1~C6アルキル基、C3~C6シクロアルキル基、ヒドロキシル基、C1~C6アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基を示し、R4はC1~C6アルキル基、C3~C6シクロアルキル基、ヒドロキシル基、C1~C6アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基を示す。)で表されるトリオキソプロパン化合物の製造方法であって、次の一般式(2):(式中、R1及びR2は前記と同じ意味である。)で表されるジオキソプロパン化合物を、ルイス酸触媒の存在下、亜塩素酸化合物と反応させることを特徴とするトリオキソプロパン化合物の製造方法であり、 ルイス酸触媒が、次の一般式(4)MZn(4)(式中、Mは遷移金属、アルミニウム、ガリウム、タリウム、亜鉛及びビスマスからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属のイオンであり、Zはハロゲン化物イオン、酸化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、トリフルオロメタンスルホナートイオン(CF3SO3-)、パーフルオロオクタンスルホナートイオン(C8F17SO3-)又はアセチルアセトナートイオン(acac)アニオンを示し、nは1~4の整数である)で表されるルイス酸である、トリオキソプロパン化合物の製造方法。

IPC (8)：

C07C 67/313 ( 200 6.01) ,  C07C 69/716 ( 200 6.01) ,  C07C 69/738 ( 200 6.01) ,  C07C 49/497 ( 200 6.01) ,  C07C 45/64 ( 200 6.01) ,  C07D 319/06 ( 200 6.01) ,  C07C 45/30 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (8)：

C07C 67/313 ,  C07C 69/716 Z ,  C07C 69/738 Z ,  C07C 49/497 ,  C07C 45/64 ,  C07D 319/06 ,  C07C 45/30 ,  C07B 61/00 300