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J-GLOBAL ID:202203004211653675

アブレータ、プリプレグ、アブレータの製造方法、及びアブレータ用のプリプレグの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (10): 特許業務法人南青山国際特許事務所 ,  大森 純一 ,  高橋 満 ,  中村 哲平 ,  折居 章 ,  関根 正好 ,  金子 彩子 ,  金山 慎太郎 ,  千葉 絢子 ,  白鹿 智久
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2017177099
Publication number (International publication number):2019052238
Patent number:7142873
Application date: Sep. 14, 2017
Publication date: Apr. 04, 2019
Claim (excerpt):
【請求項1】 繊維材料及びポリイミド樹脂を含有し、前記繊維材料の体積含有率Vfと前記ポリイミド樹脂の体積含有率Vmとの比率がVf:Vm=1:X(X=1~2)に設定され、密度が0.6g/cm3以上1.3g/cm3以下の範囲であり、前記ポリイミド樹脂は、下記一般式(1)で表される末端変性イミドオリゴマーを含有する樹脂組成物よりなる熱硬化性樹脂であるアブレータ。 一般式(1) (式中、R1およびR2は2-フェニル-4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)フルオレン、1,3-ジアミノベンゼンから選択される少なくとも1種の2価の芳香族ジアミン残基を表し、R3およびR4は3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4-カルボキシフェニル)エーテル二無水物から選択される少なくとも1種の4価の芳香族テトラカルボン酸類残基を表す。R5およびR6は水素原子又はフェニル基であって、いずれか一方がフェニル基を表す。mおよびnは、1≦m≦10、0≦n≦2、1≦m+n≦10および0.5≦m/(m+n)≦1の関係を満たし、繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。)
IPC (2):
C08J 5/24 ( 200 6.01) ,  B64G 1/58 ( 200 6.01)
FI (2):
C08J 5/24 CFG ,  B64G 1/58
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (4)
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