融解性多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：青木篤 , 三橋真二 , 福地律生 , 齋藤学 , 木村健治 , 小林良博
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017046145
Publication number (International publication number)：2018150255
Patent number：7021737
Application date： Mar. 10, 2017
Publication date： Sep. 27, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】下記式(1) [MXY]n (1)(式中、Mは銅イオン、Xはピリジル型の銅イオンと配位結合する場所を有する配位子、Yは1価の対負電荷を有する対イオンである。nは、[MXY]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表され、前記配位子Xの静電荷がプラスであり、下記構造を有する3-pybpy+または4-pybpy+であり、前記Yが、SCN-イオンである、融解性多孔性高分子金属錯体。

IPC (6)：

C07D 213/22 ( 200 6.01) , B01J 20/26 ( 200 6.01) , B01D 53/02 ( 200 6.01) , F17C 11/00 ( 200 6.01) , C07F 1/08 ( 200 6.01) , C01C 3/20 ( 200 6.01)

FI (6)：

C07D 213/22 CSP , B01J 20/26 A , B01D 53/02 , F17C 11/00 A , C07F 1/08 D , C01C 3/20 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-042089 Applicant：新日鐵住金株式会社, 国立大学法人京都大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

Show all

Return to Previous Page